建设高端半导体装备，SRII赋能新一代集成电路制造
思锐智能携业界尖端的离子注入（IMP）和原子层沉积（ALD）技术亮相SEMICON China 2024，持续建设全球一流的高端半导体制造装备，广泛赋能集成电路、第三代半导体等诸多高精尖领域。
思锐智能
立足产业发展新阶段，思锐智能以先进ALD技术拓展超摩尔时代新维度
日前，以“凝聚芯合力，发展芯设备”为主题的第十届（2022）中国半导体设备年会（CSEAC）在无锡太湖国际博览中心隆重召开。
SRII重磅推出两款ALD新品，满足泛半导体应用多功能性和灵活性的需求
致力于满足半导体制造领域不断增长的技术需求，业界领先的ALD设备制造商和服务商—青岛四方思锐智能技术有限公司（以下简称思锐智能或SRII）旗下Beneq品牌全新设计并重磅推出了两款用于半导体器件制造的新产品：Prodigy和Transform300。
GaN快充市场赛道提速，SRII交付半导体晶圆设备助力中国产能扩充
随着苹果公司正式推出140W氮化镓（GaN）快充，以智能手机、笔记本电脑为代表的消费电子快充市场迎来了又一标杆性产品的重要拐点。近两年来，全球GaN充电器的出货量已经突破了数千万只。然而，这仅仅只是开端。
思锐智能携旗下Beneq品牌亮相CIOE2021，探索从微观到宏观层面的ALD光学应用创新
近日，业界领先的ALD设备制造商和服务商——思锐智能携旗下Beneq品牌重磅亮相第23届中国国际光电博览会（以下简称CIOE2021），并分享ALD设备的主流产品以及在光学领域的众多创新解决方案。
从夜视到“元宇宙”入口设备，ALD光学镀膜不断突破技术和市场边界
随着各类镜头、显示设备、生物识别技术产品、5G通讯技术和终端设备，以及最近备受关注的未来“元宇宙”重要场景入口设备的AR/VR等消费类终端的创新发展，对光学镀膜设备的技术工艺以及性价比要求也越来越高。
第三代半导体热潮“带货”沉积设备需求，供应链与服务本地化成关键考量
随着中国“十四五”规划的提出、以及全球科技产业对于“碳达峰、碳中和”的目标达成共识，以碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）为代表的第三代半导体新材料凭借高击穿电场、高热导率、高电子饱和速率以及抗强辐射能力等优异特性，成为了支撑5G基建、新能源产业、特高压、轨道交通等领域的核心技术。
40年ALD积淀助力超越摩尔，思锐智能完成第一阶段发展布局
“专注ALD创新、助力超越摩尔“，2021年5月，ALD设备和服务提供商——青岛四方思锐智能技术有限公司与国家智能传感器创新中心的战略合作签约仪式在上海正式启动，思锐智能总经理聂翔先生、国创中心副总裁焦继伟博士代表出席现场签约。双方向与会人员表示，此次战略合作将面向超越摩尔领域，基于原子层沉积（ALD）技术开展MEMS、CMOS图像传感器等重要领域的联合研发，携手深度合作，致力于加速超越摩尔领域的产业落地与技术创新。