建设高端半导体装备,SRII赋能新一代集成电路制造
思锐智能携业界尖端的离子注入(IMP)和原子层沉积(ALD)技术亮相SEMICON China 2024,持续建设全球一流的高端半导体制造装备,广泛赋能集成电路、第三代半导体等诸多高精尖领域。
思锐智能携业界尖端的离子注入(IMP)和原子层沉积(ALD)技术亮相SEMICON China 2024,持续建设全球一流的高端半导体制造装备,广泛赋能集成电路、第三代半导体等诸多高精尖领域。
致力于满足半导体制造领域不断增长的技术需求,业界领先的ALD设备制造商和服务商—青岛四方思锐智能技术有限公司(以下简称思锐智能或SRII)旗下Beneq品牌全新设计并重磅推出了两款用于半导体器件制造的新产品:Prodigy和Transform300。
随着苹果公司正式推出140W氮化镓(GaN)快充,以智能手机、笔记本电脑为代表的消费电子快充市场迎来了又一标杆性产品的重要拐点。近两年来,全球GaN充电器的出货量已经突破了数千万只。然而,这仅仅只是开端。