科普贴 | 用于5G的射频滤波器、其制造挑战和解决方案 winniewei -- 周一, 10/17/2022 - 14:11 在这篇文章中,我们将探讨射频滤波器是如何工作的,为什么它们如此重要,芯片制造商在制造蜂窝器件时面临的挑战,以及泛林如何帮助解决这些问题。
SPARC:用于先进逻辑和 DRAM 的全新沉积技术 winniewei -- 周六, 10/08/2022 - 16:41 芯片已经无处不在:从手机和汽车到人工智能的云服务器,所有这些的每一次更新换代都在变得更快速、更智能、更强大。
泛林集团、Entegris 和 Gelest 携手推进 EUV 干膜光刻胶技术生态系统 winniewei -- 周五, 07/15/2022 - 16:12 这一使用突破性技术的合作将为全球芯片制造商提供强大的化学品供应链,并支持下一代 EUV 应用的研发
为了实现更小、更快、更节能,芯片制造经历了什么? winniewei -- 周二, 05/10/2022 - 09:12 每隔几个月就会有更新换代的电子产品问世。它们通常更小、更智能,不仅拥有更快的运行速度与更多带宽,还更加节能,这一切都要归功于新一代先进的芯片和处理器。
5nm及更先进节点上FinFET的未来:使用工艺和电路仿真来预测下一代半导体的性能 winniewei -- 周四, 05/05/2022 - 14:37 虽然栅极间距(GP)和鳍片间距(FP)的微缩持续为FinFET平台带来更高的性能和更低的功耗,但在5nm及更先进节点上,兼顾寄生电容电阻的控制和实现更高的晶体管性能变得更具挑战。
泛林集团的选择性刻蚀设备组合正在推进芯片行业下一个重要的技术拐点 winniewei -- 周一, 02/28/2022 - 13:37 使用3D架构来支持先进逻辑和存储器应用代表了半导体行业下一个重要的技术拐点。非易失性存储首先实现了这一技术拐点,泛林集团的刻蚀和沉积工具持续走在这一创新的前沿。