EUV

三星官方终于宣布了 Exynos 1280 芯片组，将会装备在 Galaxy A33、Galaxy A53 和 Galaxy M33 等手机上。

随着市场需求推动存储器技术向更高密度、更优性能、新材料、3D堆栈、高深宽比 (HAR) 刻蚀和极紫外 (EUV) 光刻发展，泛林集团正在探索未来三到五年生产可能面临的挑战，以经济的成本为晶圆厂提供解决方案。

早在 2019 年，代工厂就已经开始了有限度地将极紫外（EUV）光刻光刻技术应用于大批量的芯片制造（HVM）。然而影响 EUV 工艺普及的主要因素之一，就是光掩模（Pellicles）材料的缺乏，结果限制了 EUV 工艺的产能扩张。好消息是，近日有消息称，这种情况终于得到了改善，且有望在未来几年迎来进一步的发展。

11月14日——据TOMSHARDWARE报道，台积电表示其部署的极紫外光(EUV)光刻工具已占全球安装和运行总量的50%左右，这意味着其使用的EUV机器数量超过了业内其他任何一家公司。为了保持领先，台积电已经下单订购了至少13台ASML的Twinscan NXE EUV光刻机，将会在2021年全年交付，不过具体的交付和安装时间表尚不清楚。

据台媒报道，新冠肺炎疫情引爆远距商机，美中贸易战带动转单效应，8吋及12吋晶圆代工产能供不应求情况将延烧到明年全年。其中，龙头大厂台积电7/6nm及5nm等先进制程明年产能已被客户预订一空。